拓荆科技：HDPCVD反应腔装机量突破70个

拓荆科技：HDPCVD反应腔装机量突破70个

拓荆科技股份有限公司2021年推出的国内首台HDPCVD，目前已升级为新型六边形平台，产品性能达到业界领先水平，市场占有率不断攀升。截止到目前反应腔累计装机量已超过70个，2024年底预计将突破100个。

拓荆的HDPCVD设备Hesper产品采用六边形平台(TS-300S)，可搭配5个反应腔，实现了高产能、高开机率、易维护和优异的薄膜填充能力。同时具有Wafer残余吸附力监测系统，稳定的静电吸附力和自动控温模式等功能。Hesper主要用于STI、ILD、IMD及Passivation等各种沟道介质填充。

（来自：拓荆科技）