微导纳米：发布低温薄膜沉积应用解决方案

微导纳米：发布低温薄膜沉积应用解决方案

近日，江苏微导纳米科技股份有限公司（简称：微导纳米）发布了三款低温薄膜沉积新产品：iTronix ^® LTP系列等离子体增强化学气相沉积系统、iTomic ^®PE系列等离子体增强原子层沉积系统、iTomic ^® MeT系列等离子体金属及金属氮化物沉积系统。

iTronix^® LTP系列低温等离子体化学气相沉积系统能在低温下实现高质量的SiO₂、SiN和SiCN薄膜沉积，适用于混合键合的介电层（ILD）、低k阻挡层和堆叠薄膜（BVR）；iTomic^® PE系列等离子体增强原子层沉积系统可沉积高质量的SiO₂和SiN薄膜，适用于高深宽比的TSV衬垫，能够在极高深宽比的通孔内形成均匀且致密的绝缘层，保证了器件性能的稳定；iTomic^®  MeT系列金属及金属氮化物沉积系统，可沉积高性能的TiN、TaN、Ru等金属性薄膜，适用于高深宽比TSV 的铜阻挡层，能够有效防止铜扩散，提高了TSV的可靠性和导电性能 。

（来自：微导纳米）