盛美上海：首台高产能KrF涂胶显影设备交付头部逻辑晶圆厂

盛美半导体设备（上海）股份有限公司（简称：盛美上海）近日宣布，其首台高产能KrF工艺前道涂胶显影设备Ultra Lith KrF系统已于2025年9月顺利交付中国某头部逻辑晶圆厂客户。该设备基于成熟的ArF平台架构打造，具备高产能、先进温控和实时工艺监控功能，专为成熟节点光刻应用设计。

设备采用12涂胶腔+12显影腔（12C12D）模块化配置，搭载54块高精度控温热板，支持高低温多种工艺，产能超过300片/小时（WPH），并集成背面颗粒去除（BPRV）和晶圆级异常检测（WSOI）模块，可有效提升工艺稳定性与良率。

公司总经理王坚表示，KrF光刻技术仍是成熟器件生产的重要环节，此举进一步拓展了盛美在前道设备领域的产品覆盖，助力客户提升制造灵活性与集成效率。

（来自：盛美上海）