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芯源微:涂胶显影设备已进入多条晶圆生产线

 

芯源微:涂胶显影设备已进入多条晶圆生产线

沈阳芯源微电子设备股份有限公司(以下简称:“芯源微”)通过多年的技术积累以及承担国家02重大专项,芯源微已经成功掌握多种涂胶显影核心技术,并拥有多项自主知识产权。尽管芯源微的涂胶显影设备尚处于产业化初期,但其前道I-line涂胶显影机已在长江存储上线进行工艺验证,可满足客户0.18μm技术节点加工工艺;前道Barc(抗反射层)涂胶设备已在上海华力上线测试应用,可满足客户28nm技术节点加工工艺。                (来自:原创中银杨绍辉团队 半导体设备与材料