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中微公司:发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3™

           中微公司:发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3™

中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”,近日宣布推出Prismo HiT3™MOCVD设备,主要用于深紫外LED量产。

中微Prismo系列MOCVD设备目前已进入全球大多数领先的蓝绿光LED制造商,此次推出的Prismo HiT3™是中微Prismo系列MOCVD设备的最新产品。该设备是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备,反应腔最高温度可达1400度,具有优异的工艺重复性、均匀性和低缺陷率。该设备同时也为高产量而设计,单炉可生长18片2英寸外延晶片,并可延伸到生长4英寸晶片。

中微公司设计的Prismo HiT3™MOCVD设备具有新颖的腔体设计,能在高温环境下生长高质量氮化铝工艺,并具有业内领先的深紫外LED高产出率;同时具备较长的平均免开腔维护间隔时间,进一步延长正常运行时间并提高产能。真空自动化传输系统可以抑制颗粒物的产生,并减少缺陷。自动化升降机构可方便维护操作并有效节省维护时间。

“我们现在已经看到了深紫外LED带来的切实好处,它已成为消灭有害病原体的重要工具。”杰生半导体有限公司董事长康健说道。

(来自:中微公司)