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光伏技术迭代和产能扩张,拉动设备需求持续放量

光伏技术迭代和产能扩张,拉动设备需求持续放量

硅片设备:大尺寸+薄片化降本,扩产利好设备投资

单晶硅片迎来扩产高峰,预计2022年对应设备市场空间超400亿元。综合行业整体情况看,预计单GW设备投资额达2亿元左右;其中,长晶设备投资约1.2亿元,切片加工设备投资额约0.5亿元,自动化及检测等设备投资额约0.3亿元左右。根据我们跟踪的未来两年单晶硅片行业扩产规划测算,预计2022年单晶硅片设备市场空间超400亿元,其中长晶设备/切片加工设备/自动化等设备对应市场空间超250/100/60亿元,迎来需求高峰。

电池片设备:N型产业化提速,需求迎来放量

TOPCon兼容PERC产线设备,是未来2-3年最具性价比的技术路线。TOPCon和PERC电池技术和产线设备兼容性较强,主要新增设备在非晶硅沉积的LPCVD/PECVD设备以及镀膜设备,PERC产线需6000-8000万元/GW改造升级为TOPCon产线。改造方式分为三种工业化流程:

1)本征+扩磷。LPCVD制备多晶硅膜结合传统的全扩散工艺。此工艺成熟且耗时短,效率高,已实现规模化量产,但绕镀和成膜速度慢,该技术为目前TOPCon厂商布局的主流路线;2)直接掺杂。LPCVD制备多晶硅膜结合扩硼及离子注入磷工艺。离子注入技术是单面工艺,掺杂离子无需绕度,但扩硼工艺要比扩磷工艺难度大,需要更多的扩散炉和两倍的LPCVD,投资成本高、良率更高;3)原位掺杂。PECVD制备多晶硅膜并原位掺杂工艺。该方法沉积速度快,沉积温度低,还可用PECVD制备多晶硅层,简化很多流程,实现大幅降本。

(来自:全球光伏)