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中微公司:喜迎第2000个CCP刻蚀设备反应台付运里程碑

中微公司喜迎第2000个CCP刻蚀设备反应台付运里程碑

近日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)的电容耦合高能等离子体(CCP)刻蚀设备第2000个反应台顺利付运国内一家领先的半导体制造商,这是中微公司CCP刻蚀设备的又一重要里程碑,也是迈向新目标的关键一步。

本次运付的Primo AD-RIE-e是中微公司第二代电介质刻蚀产品Primo AD-RIE®的子产品。Primo AD-RIE-e不仅具备Primo AD-RIE®可切换双低频射频源、可灵活装置多达六个反应台的高效设计,还配备了自主研发的四区动态静电吸盘,每一制程步骤均可独立进行控温,实现了更高的刻蚀均匀度和刻蚀选择比。Primo AD-RIE-e将应用于5纳米及以下的前段和中段的掩膜层刻蚀的开发及量产,为客户提供创新的刻蚀解决方案。

(来自:中微公司)