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10nm先进工艺无需光刻机,为中国芯片指明新方向

10nm先进工艺无需光刻机,为中国芯片指明新方向

近日日本方面报道指东京理科大学已将NIL工艺突破到10nm以下,这是全球首款无需光刻机的芯片制造工艺,代表着先进工艺的另一条路线,对于以光刻机为主业的ASML来说无疑是重大的打击。

日本企业在光刻机市场衰落后,除了继续维持着光刻机产业之外,他们还尝试研发了无需光刻机的NIL技术,早是数年前NIL技术就已研发成功,并被日本的铠侠采用,目前已将NIL工艺用于生产15nm工艺的存储芯片,日本方面认为NIL工艺至少可以推进至5nm工艺,目前突破10nm工艺就是NIL工艺的进一步升级。

日本在光刻机技术和NIL工艺技术方面的进展,将为中国的芯片制造提供新的选择,同时也为中国芯片行业研发无需光刻机的制造工艺指明了方向。

(来自:柏铭科技)