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盛美上海:首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH顺利出机

盛美上海:首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH顺利出机

近日,盛美半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“盛美上海”)首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机,顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备,该设备由盛美半导体设备(亚太)制造中心完成出货,这是该公司提升其在涂胶和显影领域内专业技术的重要一步。

盛美上海产品还包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备,及PECVD设备。

                                                                                                                    (来自:盛美上海)