东方晶源：两项成果登上SPIE国际权威期刊

东方晶源：两项成果登上SPIE国际权威期刊

第49届SPIE Advanced Lithography + Patterning会议在美国加州圣何塞拉开帷幕。作为半导体行业关于光刻和图形成型技术最具影响力的国际会议，本届大会吸引了来自全球各地的专家、学者，带来近600篇论文，涉及极紫外光刻、新型图形技术、微光刻的计量、检验和过程控制等六大领域。

近日，东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司（简称：东方晶源）两篇检测量测技术相关论文被SPIE Advanced Lithography + Patterning会议论文集收录，并受邀在会议现场通过演讲及海报展示等形式进行分享，成为本次大会上出现为数不多的“中国面孔”。此外，东方晶源在本届大会发布的论文数量和质量均可比肩国际头部公司，展现出在半导体检测量测领域的技术实力，以及不断探索前沿技术的前瞻性和领先性。

（来自：东方晶源）