北方华创：发布国产12英寸双大马士革CCP刻蚀机

北方华创：发布国产12英寸双大马士革CCP刻蚀机

近日，北方华创科技集团股份有限公司（简称：北方华创）正式发布新品—12英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机Accura LX，该机覆盖逻辑领域多个技术节点中以AIO (双大马士革刻蚀工艺)、Contact (接触孔)为代表的关键介质刻蚀制程，并可用于存储的CMOS (互补金属氧化物半导体)相关制程，适用于Low-K（低介电常数）介质及常规介质材料的刻蚀工艺。

Accura LX设备作为北方华创推出的12英寸双大马士革CCP（电容耦合等离子体）介质刻蚀产品，为北方华创开拓了一个全新的产品市场领域，能够与现有的12英寸硅、金属刻蚀机形成完整的刻蚀工艺解决方案。同时，Accura LX所搭建的12英寸CCP刻蚀机硬件架构和技术平台，可以用于存储、CIS (互补金属氧化物半导体图像传感器)、Power(功率半导体)等多个领域，应用前景广阔。                                                                             （来自：北方华创）