中国首套高端光刻机曝光系统通过验收测试(2017-11-18)



中国首套高端光刻机曝光系统通过验收测试

1025日,科技部原副部长曹健林在“第十五届中国国际半导体博览会暨高峰论坛”上透露,中国首套高端光刻机曝光系统,于10月在整机环境下通过验收测试。

早在2007年,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(简称:02专项),启动90nm节点曝光光学系统立项论证;2009年,该项目获批启动,其中,物镜系统和照明系统分别由两个研究所负责。

按照规划,该项目一期投入近6亿元,拟建立物镜超精密光学研发团队及研发平台。20169月,物镜系统完成交付;20174月,90nm节点 NA0.75 ArF照明系统成功交付;今年10月,该曝光光学系统在整机环境下通过验收测试。

(来自:中华液晶网)