北方华创微电子:14纳米 Hardmask PVD设备(2017-9-24)



北方华创微电子:14纳米 Hardmask PVD设备

成功进入国际主流生产线验证

近日,北京北方华创微电子装悲与喜公司自主开发的14纳米 Hardmask PVD(硬掩模物理气相沉积)设备成功进入国际主流集成电路生产线验证,这是北方华创微电子继14纳米刻蚀机、单片退火设备之后,又一种14纳米集成电路设备进入工艺验证阶段。

TiN Hardmask PVD是集成电路制程中的一道重要工艺步骤,北方华创微电子基于多年集成电路PVD设备技术积累,针对性开发了exiTin  H430 PVD设备,用于14纳米TiN Hardmask薄膜沉积工艺,设备以全新的设计理念实现了多项技术突破,关键技术指标达到国际先进水平。

(来自:北方华创微电子)