中微公司：加快科技创新与新质生产力发展

中微公司：加快科技创新与新质生产力发展

中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称：“中微公司”或“公司”)自2004年成立以来，一直致力于开发和提供先进的微观加工所需的高端设备，是典型的新质生产力代表。

近年来，公司在刻蚀技术等关键领域取得显著突破，研发出一系列国际领先水平的产品，公司的等离子体刻蚀设备已达到5纳米及以下的先进水平，可覆盖绝大多数高端应用需求。

公司在薄膜沉积领域快速扩大产品覆盖度，新开发的LPCVD设备和ALD设备，目前已有多款设备产品进入市场并获得客户认证，开始得到重复性订单；公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段，已完成多家先进逻辑器件与MTM器件客户的工艺验证；公司开发的用于Mini-LED、Micro-LED、碳化硅功率器件、氮化镓功率器件等多类MOCVD设备也取得了良好进展。

截至2024年9月30日，公司已申请2,744项专利，其中发明专利2,290项，已获授权专利1,716项，其中发明专利1,466项。公司荣获两次中国专利金奖、一次中国专利银奖。近3年来，公司4次荣登福布斯中国创新力企业50强榜单。

（ 来自：中微公司）