盛美上海：首台前道ArF工艺涂胶显影设备Ultra LITH顺利出机

近日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备Ultra LITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备，该设备由盛美半导体设备(亚太)制造中心完成出货，这是该公司提升其在涂胶和显影领域内专业技术的重要一步。

盛美上海产品还包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备，及PECVD设备。

                                                                                                                    （来自：盛美上海）